T900 技術參數

1

儀器測試范圍：

Fe基材：鍍層Cr/Zn/Ni/Ag/Au zui多測試五層

Cu基材：鍍層Ag/Sn/Au/Ni等zui多測試五層

其他基材等

2

樣品種類：

金屬上鍍金屬鍍層

3

zui低檢出限：

鍍層分析：0.0035um--40um

4

測試時間：

30s-100s(軟件自動調整)

5

攝像定位系統：

1200萬真像素高清定位系統；

6

X射線光管：

窗口材料：金屬鈹

使用壽命：大于30000小時

7

探測器：

美國Amptek*鍍層探測器

分辨率125ev±2

9

高壓電源：

0-90kev，0-2mA   zui大100W

10

高壓保護措施

過壓自保護，自恢復

11

集成工業計算機：

（電腦一體機）

4G內存，1.6G雙核CPU

操作系統：正版Windows7   （無需外接電腦）

12

準直濾光系統：

光斑大?。?phi;0.1mm、0.5mm、4mm(軟件自動選擇)

濾光系統：15種5組（軟件自動選擇）

13

工作環境溫度：

溫度 :15-30℃  ；濕度：≤75% （不結露）

14

輸入電源：

AC 220V±15%，50Hz

15

儀器尺寸：

450mm*450mm*350mm

16

測試樣品腔尺寸：

300mm*300mm*260mm

17

輻射防護標準：

遠高于國標GB18871-2002 GBZ115-2002標準